Ermöglicht den Übergang von F&E zur Kleinserie in der Halbleiterfertigung Für Reinigungs-, Ätz-, Strip- und Trocknungsanwendungen Die Halbleiterexperten von RENA Technologies NA haben ihr Portfolio an Nassbearbeitungslösungen um eine neue Maschine erweitert. Als anerkannter Spezialist für Batch-Tauch- und Spraytechnologie freut sich RENA, die Markteinführung der neuen Single-Wafer-Plattform für die Halbleiterbearbeitung namens […]