Für die DUV-Lithografie hat Steinmeyer am Standort Dresden, Europas größtem IKT-/Mikroelektronik-Zentrum, eine ultrakompakte, hochpräzise Positionierlösung zur Wafer-Belichtung in trockener, sauerstofffreier Stickstoff-Atmosphäre entwickelt. Die innovative Baugruppe ist als optionales Add-on zur Integration in eine bestehende Maschine konzipiert und setzt Maßstäbe in puncto Kompaktheit, Zuverlässigkeit sowie Partikelarmut. Dank ihrer breiten Technologiekompetenz, ihrer […]